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Plasmapolymerisation von Hexamethyldisiloxan zur Abscheidung von quarzähnlichen Schichten[...]
5. Modellierung des Abscheideverhaltens
5.2.2. Modellierung
US(k) = I147(k=0) - I147(k) ~ FO2 (5-14)
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Dissertation (PhD)
Plasmapolymerisation von Hexamethyldisiloxan zur Abscheidung von quarzähnlichen Schichten bei gepulster Leistungszufuhr / von Christian Soll
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2000
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