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Plasmapolymerisation von Hexamethyldisiloxan zur Abscheidung von quarzähnlichen Schichten[...]
5. Modellierung des Abscheideverhaltens
5.1.4. Weiteres Wachstum in der Gasphase
R1-Si-OH + R2-Si-OH => R1-Si-O-Si-R2 + H2O (5-11)
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Dissertation
Plasmapolymerisation von Hexamethyldisiloxan zur Abscheidung von quarzähnlichen Schichten bei gepulster Leistungszufuhr / von Christian Soll
Entstehung
2000
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