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Plasmapolymerisation von Hexamethyldisiloxan zur Abscheidung von quarzähnlichen Schichten[...]
5. Modellierung des Abscheideverhaltens
5.1.3. Startprozeß im Sauerstoffplasma
(CH3)3-Si-O-Si-(CH3)3 + O => (CH3)3-Si-O-Si(CH3)=O + 2 CH3 (5-8)
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Dissertation
Plasmapolymerisation von Hexamethyldisiloxan zur Abscheidung von quarzähnlichen Schichten bei gepulster Leistungszufuhr / von Christian Soll
Entstehung
2000
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