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Plasmapolymerisation von Hexamethyldisiloxan zur Abscheidung von quarzähnlichen Schichten[...]
5. Modellierung des Abscheideverhaltens
5.1.2. Startprozeß im Argonplasma
e + R-Si-(CH3)3 => 2 e + R-Si+*-(CH3)3 => 2 e + CH3* + R-Si+-(CH3)2, (5-2)
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Dissertation (PhD)
Plasmapolymerisation von Hexamethyldisiloxan zur Abscheidung von quarzähnlichen Schichten bei gepulster Leistungszufuhr / von Christian Soll
Place and Date of Creation
2000
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