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oai:elekpub.bib.uni-wuppertal.de:35558452020-12-21T18:52:37ZubwhsmigoaDoctoralThesis

vls/2603noah-balancer_mdapi1elekpub.bib.uni-wuppertal.devdSpatial atomic layer deposition of electrically (non-)conductive gas diffusion barriersSpatial atomic layer deposition of electrically non-conductive gas diffusion barriersHoffmann, LukasVerfasserautBergische Universität WuppertalGrad-verleihende InstitutiondggtextthesisTextHochschulschriftthesisdoctoralThesisgwXA-DE-NWWuppertal23.04.20182018single unitengelectronic resourceremote1 Online-Ressource (XV, 148 Seiten)ComputerOnline-Ressourcevon M.Sc. Lukas HoffmannBergische Universität Wuppertal, Dissertation, 2018Langzeitarchivierung gewährleistet, LZAWuppertalurn:nbn:de:hbz:468-20180906-095850-91074993982990226167810206441HT019809161Spatial atomic layer deposition of electrically (non-)conductive gas diffusion barriersHoffmann, LukasDruck-AusgabeHT019804246http://elpub.bib.uni-wuppertal.de/edocs/dokumente/fbe/elektrotechnik/diss2018/hoffmannhttp://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn=urn%3Anbn%3Ade%3Ahbz%3A468-20180906-095850-9Open AccessRS INC 1.0oaDoctoralThesispublicrda18091320250113070951.0HT019809161ger600620 https://elekpub.bib.uni-wuppertal.de//domainresource/static/graphics/connectors/viewerLogo.gifWuppertal : Bergische Universität Wuppertalreserved https://ub-wuppertal.digibib.net/search/katalog/record/(DE-605)HT019809161 https://elekpub.bib.uni-wuppertal.de/id/3555845 https://elekpub.bib.uni-wuppertal.de/i3f/v20/3555845/manifest https://elekpub.bib.uni-wuppertal.de/proto_ftsearch/3555845