Analyse, Optimierung und Entwicklung von mikrowellen-angeregten Plasmaquellen mittels numerischer Simulation / von Sebastian Kytzia. 2009
Inhalt
- Inhaltsverzeichnis
- Kurzfassung
- Vorwort
- Physikalische Grundlagen
- Plasmatechnik
- Komplexe Konduktivität, Permittivität und Brechungsindex des Plasmas
- Wellengrößen des Plasmas
- Leistungabsorption des Plasmas
- Betriebsphasen von Plasmaquellen
- Oberflächenwellen auf Plasmen
- Mikrowellentechnik
- Numerische Simulation
- Plasmaquellen mit Schlitzantennen-Prinzip
- Materialien von Mikrowellen-angeregten Plasmaquellen
- Das SLAN-Prinzip
- Optimierungsmöglichkeiten einer SLAN
- 2-Schlitz-Design
- Optimierung des Innenzylinders zur Plasmasäule
- Optimierung für Zünd- und Plasmaphase
- Anpassungsnetzwerke für MWPQ
- Das Einblockmodell
- Einblockmodell
- Plasmaparameterstudie
- Leistungsbilanz
- Plasmasäulenwachstum und Versatz
- Stationäre und gepulste Plasmen
- Frequenz- und Druckbereiche
- MWPQ für Hochtemperatur-Anwendungen
- Übersicht
- Eigenschaften des Prozesses
- Vorüberlegungen für Quelle 2
- Numerisches Iterationsverfahren für Quelle 2
- Vergleich Zündphase: Quelle 1 und 2
- Vergleich Plasmaphase: Quelle 1 und 2
- Messtechnische Charakterisierung der Quelle 2
- Optimierung der Quelle 2 zur Quelle 3
- Analyse der Quelle 2
- Vorgaben zur Quelle 3
- Entkopplung von Ringresonator und Rechteckhohlleiter
- Vorüberlegungen Quelle 3
- Numerisches Iterationsverfahren für Quelle 3
- Vergleich Zündphase: Quelle 2 und Quelle 3
- Vergleich Plasmaphase: Quelle 2 und Quelle 3
- Automatisierbarkeit
- Zusammenfassung
- Analyse einer MW-Plasmaquelle für Ätzprozesse
- Übersicht
- Eigenschaften des Prozesses
- Messtechnische Charakterisierung der Quelle
- Zündphase der Quelle
- Prozessparameter in der Simulation
- Plasmaphase der Quelle
- Zusammenfassung
- Schlussbetrachtung
- Anhang A: Berechnung der Plasmaparameter
- Anhang B: Berechnung der absorbierten Leistung des Plasmas
- Symbolverzeichnis
- Abbildungsverzeichnis
- Tabellenverzeichnis
- Literaturverzeichnis
- Danksagung