TY  - THES
AB  - Die extreme ultraviolette Lithografie ist eine der Schlüsseltechnologien für Mikrochips. Ein zentrales Problem ist die Anreicherung von Zinn in der EUV-Quelle während des Belichtungsprozesses der Wafer, was zu einer Degradierung und Beschädigung der EUV-optischen Komponenten führt. Eine grundlegende Frage ist, wie und in welchem chemischen Zustand Elemente flüchtig werden können und damit das Potenzial zur Kontamination aufweisen. Eine der Ziele dieser Arbeit ist die Messung der relevanten Hydride im ultra-spuren Bereich. Der zentrale Fokus dieser Forschung liegt auf der Wechselwirkung von Wasserstoffplasmaspezies mit Elementen und der Bestimmung von nativen Ionen und Molekülen mittels Massenspektrometrie. Experimente sind darauf ausgerichtet, die ablaufenden Mechanismen und Prozesse aufzuklären. Mit Hilfe von mehreren Massenspektrometern und Plasmaquellen kann der Einfluss der Instrumente und ihrer Parameter bestimmt werden. Abhängig vom Instrument und seiner Ionenquelle können Moleküle durch EI detektiert oder nativen Ionen, die im Wasserstoffplasma erzeugt wurden, direkt gemessen werden. Auf diese Weise können sowohl die neutralen als auch die ionischen Reaktionsprodukte bestimmt werden. RASP, ein Programm, das im Rahmen dieser Arbeit entwickelt wurde, ermöglicht die Rückrechnung der sich überlagerten Massensignale. Auf diese Weise ist die Verteilung der verschiedenen Metallhydrid-Ionen zugänglich, welche wichtigen Informationen über den Bildungsprozess der entsprechenden Spezies liefert. Stannan wird unter bekannten Bedingungen synthetisiert und gemessen. Diese Massenspektren dienen als Referenzstandard für die Messung von plasmaerzeugten Metallhydriden. Zur Quantifizierung des Ätzprozesses durch Wasserstoffplasmaspezies werden Zinn-beschichtete Sensoren für Quarzkristall-Mikrowaagen verwendet. Die Änderung der Masse auf dem Sensor aufgrund
AU  - Rieger, Joshua
CY  - Wuppertal
DA  - 2023
DO  - 10.25926/BUW/0-173
DP  - Bergische Universität Wuppertal
LA  - eng
N1  - Tag der Verteidigung: 17.01.2024
N1  - Gesehen am 09.04.2024
N1  - Bergische Universität Wuppertal, Dissertation, 2024
PB  - Veröffentlichungen der Universität
PY  - November 2023
SP  - 1 Online-Ressource (xvi, 147 Seiten)
T2  - Chemie
TI  - Mass spectrometric investigation of metal hydrides relevant to Extreme Ultraviolet Lithography
UR  - https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:hbz:468-2-1758
Y2  - 2024-11-20T18:39:15
ER  -